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射頻放電離子鍍裝配



射頻放電離子鍍裝配如圖1所示。這類離子鍍的蒸起源接納電限加熱或電子束加熱。蒸起源與基體間距為20cm,在二者中間設置高頻感到線圈.感到線圈普通為7匝,用直徑3mm的銅絲繞成.高7cm。射幾次率為13.56MHz,射頻功率普通為0.5 -2kW.基體接0-2000V的負偏壓,放電的任務壓力約為10-3-10-1Pa.只要直流二極型的1%.

射頻放電離子鍍裝配

圖1:射頻放電離子鍍裝配

鍍膜室內分紅三個地區:①以蒸起源為中間的蒸發區;②以感到線圈為中間的離化區;③以基體為中間的離子加快區和離子達到區。經由進程別離調理熱起源功率,感到線圈的射頻鼓勵功率,基體偏壓等,能夠對三個地區停止自力的節制,從而有用地節制堆積進程.改良了鍍層的物性。
射頻離子鍍除能夠制備高品質的金屬薄膜外.還能鍍制化合物薄膜和合金薄膜。鍍化合物薄膜接納活性反映法。在反映離子鍍分解化合物薄膜和用多蒸起源配制合金膜時.切確調理蒸起源功率.節制物料的蒸發速度是非常主要的。

在感到線圈射頻鼓勵區中.電子在高頻電場感化下做振蕩活動.耽誤了電子達到陽極的途徑.增添了電子與反映氣體及金屬蒸氣碰掩的幾率.如許可進步放電電流密度。恰是因為高頻電場的感化,使著火氣體壓強下降到10-3~10-1Pa,即叮在高真空中停止高頻放電.因此以電子束加熱蒸起源的射頻離子鍍.不用設置差壓板。

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